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半导体
空白光掩膜(Blank Mask)
半导体曝光工艺的部件
空白光掩膜是半导体工艺中在曝光工程使用的光掩膜的部件。用照片胶卷来比喻的话,拍摄前的胶片是空白光掩膜,拍摄后被转写的胶片是光掩模。随着半导体技术的发展,需要能够形成精细图案的高像素光掩模,因此需要具备能够适合这一要求的空白掩膜,SKC正在加快空白光掩膜的国产化速度。
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所属事业部和联系方式
Blank Mask部门 : Mr. CHOI / sypkl@sk.com