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半导体
蚀刻液(BOE)
去除氧化膜和金属

应用于半导体行业的蚀刻液HF/BOE主要是将硅、锗等氧化膜经过湿式蚀刻以及将各种氧化膜和金属等去除的原料。

在DISPLAY的制造过程中,光刻胶经过曝光机显影过后,形成的特定模型中露在外的金属部分,利用化学反应原理,使用蚀刻液将其蚀刻后形成所需模型。 ​

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